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真空镀膜技术
发布日期:2010-03-16

随着人们生活水平的提高,手机的使用也越来越普遍,但是,手机在带给人们方便的同时,其辐射对人体的危害也日益凸现。研究表明,手机产生的电磁波强度是空间电磁波的4到6倍。少数劣质手机产生的电磁波甚至达到空间电磁波百倍以上。 手机辐射可引发神经衰弱、内分泌失调,还能影响少年儿童的生长发育,严重的甚至会引发脑瘤。如何减轻手机辐射对人体健康的影响,已成为摆在我们面前的一个急需解决的问题。 应用手机真空镀膜技术,就可以较好地解决这个难题。真空镀膜是在原子水平上进行材料生成的技术,镀层的晶料度在10纳米左右,属于纳米材料的范畴。通过对手机壳内壁真空镀电磁防护膜层,可以极大地防止因电磁波辐射而对手机使用者造成的危害。由北京东明化学工业有限公司完成的硬课题“手机真空镀膜技术的研究”,主要解决的是镀膜的工艺问题,包括电阻率、附着力、高温抗氧化性、膜层表面光亮度以及复杂区域的膜层附着问题。  手机真空镀膜技术的研究与应用,不仅推动了手机制造业的发展,也推动了相关产业的发展。有电磁辐射的产品都可以应用这项技术进行电磁屏蔽,以对其使用性能进行优化,保护人类健康,保护环境.   该项技术的开发成功,使东明公司的整体技术水平又向前迈进了一大步。专家认为:手机真空镀膜技术立项起点高,是对传统电镀技术的一个挑战,它避免了传统电镀技术对环境造成的污染,是一个环保型的项目.
 
 
 

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